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ナノテクノロジーの進歩と半導体集積回路技術 (7/15号)

平成18年 7月 15日号

今回の特集は
ナノテクノロジーの進歩と半導体集積回路技術

石井威望のコメント

物事に底在する秩序が見えるときがある。メンデレーフの元素の周期律表の発見(1869年)は、その好例である。これによって既知の元素の整理ができるようになったばかりでなく、未知の元素発見への手がかりができた。
 今日、同様な秩序の発見の一つとして、量子力学的宇宙観がある。それに対応する複雑なネットワーク(例えばインターネット)に底在する量子力学的秩序の探索が始まっている。その強力なツールになっているのが、ナノテクノロジーであり、情報システム素子としての半導体の開発である。今回は、ナノテクノロジーの最前線が述べられている。執筆者は、ASET・EUVプロセス技術研究部の岡崎信次部長である。

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ポイント

1. 10億分の1メートルの世界で人工的な加工が可能に
 1ナノメートルとは、1メートルの10の9乗分の1、すなわち10億分の1の長さで、原子や分子の大きさを測るのに適した寸法領域である。近年、ナノテクノロジーでは、自然な構造に従うのではなく、人工的に加工を行うことが可能になり、具体的にはボトムアップ方式、トップダウン方式、微小電気機械素子の応用など、SFの世界を実現できるような技術が試みられている。

2. 解像度向上のため、露光波長とともに液浸技術の試みも
 半導体集積回路の高集積化は縮小投影型の露光装置の開発に始まるが、その解像度は露光波長に比例し、光学系の開口数に反比例する。露光波長の方向では、短波長化、高NA化、レジスト材料の高コントラスト化に加え、様々な技術向上により、解像度が100nm以下にまでなったが、従来のレンズ材料が使えなくなるという問題があり、そこで屈折率の高い液浸材料を用いたり、光学系材料そのものを高屈折化したりする液浸露光技術による解像度向上の試みもなされている。

 
3. 開発コスト高額化への対応で、コンソーシアムや共同開発計画も
 露光波長を短くする方向ではEUVリソグラフィ技術も有力であるが、光源、反射型の照明光学系、投射光学系、反射型マスク、真空中での装置機構系などの技術課題がある。なお近年、技術の開発コストが高額化した関係で、メーカーがコンソーシアムを形成したり、共同開発計画に参加したりするケースが増えている。


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南極観測50年(5/15号)  2007年 更新




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